Single-Dopant Lithography – AFM-SDL
Combinación de AFM e Ion Beam para litografía de un solo dopante.
El microscopio de fuerza atómica (AFM) se utiliza como herramienta para la litografía de un solo dopante (SDL). SDL permite generar características de átomos dopantes individuales con alta precisión, como Qbits, dispositivos atómicos y centros de nitrógeno vacante (N-V) en un diamante.
La integración de una sonda de exploración con un haz de iones es similar a una “nano-plantilla dinámica” para la colocación alineada de átomos dopantes. El AFM proporciona imágenes no destructivas de alta resolución del objetivo y garantiza una navegación y un posicionamiento precisos con una resolución inferior a 10 nm.
Además de SPL, el sistema AFM-SDL100 es capaz de FE-SPL y TB-EBID.
